உருவ மூடி

Carbon thin films deposition by KRF pulsed laser at different temperatures

The surface morphology of carbon thin films deposited at temperatures 20°C and 300°C have been done by Atomic Force Microscope (AFM). The 10,000 pulses of KrF Excimer laser of wavelength 248 nm, pulse energy 13-50 mJ and pulse width 20 ns was focused at an angle of 45° to ablate pure graphite target...

முழு விளக்கம்

Saved in:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
தலைமை எழுத்தாளர்கள்: Qindeel, Rabia, Ali, Jalil, Hussain, M. S., Chaudhary, K. T.
வடிவம்: கட்டுரை
வெளியீடப்பட்டது: Institute of Electrical and Electronics Engineers 2011
பகுதிகள்:
TP Chemical technology
நிகழ்நிலை அணுகல்:http://eprints.utm.my/44770/
குறியீடுகள்: குறிச்சொல் இணை
குறியீடுகள் இல்லை, இந்த குறிச்சொல்லை முதலில் பதிவு செய்யுங்கள்!
இந்த கருத்தை முதலில் விட்டுச்செல்லுங்கள்!
நீங்கள் முதலில் உள்நுழைந்திருக்க வேண்டும்

இதே போன்ற பொருட்கள்