உருவ மூடி

Optimization of the process modules for a top-down silicon nanowire fabrication using optical lithography and orientation dependent etching

A top-down silicon nanowire fabrication using a combination of optical lithography and orientation dependent etching has been developed using Silicon-on Insulator (SOI) as the starting substrate. The design of experiments for the optimization of the process flow especially on the orientation depen...

முழு விளக்கம்

Saved in:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
தலைமை எழுத்தாளர்கள்: Za'bah, Nor Farahidah, Kwa, Kelvin S. K., O'Neill, Anthony
வடிவம்: கட்டுரை
மொழி:English
வெளியீடப்பட்டது: Trans Tech Publications, Switzerland 2013
பகுதிகள்:
QD Chemistry
TS Manufactures
நிகழ்நிலை அணுகல்:http://irep.iium.edu.my/28378/
http://irep.iium.edu.my/28378/
http://irep.iium.edu.my/28378/1/Optimization_of_the_Process_Modules_for_a_Top-Down_Silicon_NW.pdf
குறியீடுகள்: குறிச்சொல் இணை
குறியீடுகள் இல்லை, இந்த குறிச்சொல்லை முதலில் பதிவு செய்யுங்கள்!

இணையம்

http://irep.iium.edu.my/28378/
http://irep.iium.edu.my/28378/
http://irep.iium.edu.my/28378/1/Optimization_of_the_Process_Modules_for_a_Top-Down_Silicon_NW.pdf

இதே போன்ற பொருட்கள்