Structural and optical properties of nc-Si:H thin films deposited by layer-by-layer technique

Hydrogenated nanocrystalline silicon (nc-Si:H) thin films deposited on c-Si and quartz substrates by layerby-layer (LBL) technique using radio-frequency plasma enhanced chemical vapour deposition system. The effects of rf power on the interlayer elemental profiling, structural and optical propert...

முழு விளக்கம்

Saved in:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
தலைமை எழுத்தாளர்கள்: Goh, B.T., Wah, C.K., Aspanut, Z., Abdul Rahman, S.
வடிவம்: கட்டுரை
வெளியீடப்பட்டது: Kluwer (now part of Springer) 2014
பகுதிகள்:
நிகழ்நிலை அணுகல்:http://eprints.um.edu.my/10619/
http://eprints.um.edu.my/10619/1/00006469_100296.pdf
குறியீடுகள்: குறிச்சொல் இணை
குறியீடுகள் இல்லை, இந்த குறிச்சொல்லை முதலில் பதிவு செய்யுங்கள்!