உருவ மூடி

Measurement of plasma parameters in Ar/O2 magnetron sputtering Zn plasma using Langmuir probe

Reactive sputtering technique using Zn metal target represents one of the simplest and most effective technique which has been used by many researchers. In the present work, we investigate the properties of reactive magnetron sputtering plasma using Zn target. The magnetron sputtering plasmas were p...

முழு விளக்கம்

Saved in:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
தலைமை எழுத்தாளர்கள்: Nayan, Nafarizal, Mohamed Ali, Riyaz Ahmad, Anak Raniah, Andreas Albert, Terk, Ang Tse
வடிவம்: Conference or Workshop Item
வெளியீடப்பட்டது: 2011
பகுதிகள்:
TK1-300 Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering
நிகழ்நிலை அணுகல்:http://eprints.uthm.edu.my/2025/
http://eprints.uthm.edu.my/2025/1/Nafarizal_FKEE_(ISPC2011).pdf
குறியீடுகள்: குறிச்சொல் இணை
குறியீடுகள் இல்லை, இந்த குறிச்சொல்லை முதலில் பதிவு செய்யுங்கள்!
இந்த கருத்தை முதலில் விட்டுச்செல்லுங்கள்!
நீங்கள் முதலில் உள்நுழைந்திருக்க வேண்டும்

இதே போன்ற பொருட்கள்