உருவ மூடி

Vertically-tapered silicon nanowire arrays prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition: synthesis, structural characterization and photoluminescence

Vertically aligned silicon nanowires (SiNWs) have been successfully synthesized using pure silane gas as a precursor by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (VHF-PECVD) method. The effect of the growth temperature on the morphology, structure and photoluminescence properties...

முழு விளக்கம்

Saved in:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
தலைமை எழுத்தாளர்கள்: Hamidinezhad, Habib, Akbar Ashkarran, Ali, Malek, Zulkurnain Abdul
வடிவம்: கட்டுரை
வெளியீடப்பட்டது: Elsevier 2014
பகுதிகள்:
TK Electrical engineering. Electronics Nuclear engineering
நிகழ்நிலை அணுகல்:http://eprints.utm.my/63213/
http://eprints.utm.my/63213/
http://eprints.utm.my/63213/
குறியீடுகள்: குறிச்சொல் இணை
குறியீடுகள் இல்லை, இந்த குறிச்சொல்லை முதலில் பதிவு செய்யுங்கள்!
இந்த கருத்தை முதலில் விட்டுச்செல்லுங்கள்!
நீங்கள் முதலில் உள்நுழைந்திருக்க வேண்டும்

இதே போன்ற பொருட்கள்