VHF-PECVD grown silicon nanoneedles: role of substrate temperature

Achieving highly aligned and dense silicon (Si) nanoneedles (NNs) is ever demanding for optoelectronics. We report the substrate temperature assisted Au-catalyzed SiNNs synthesis via very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (VHF-PECVD) technique. The effects of varying substrate...

முழு விளக்கம்

Saved in:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
தலைமை எழுத்தாளர்கள்: Mohammed, Y.H., Sakrani, S.B., Rohani, M.S.
வடிவம்: கட்டுரை
வெளியீடப்பட்டது: Academic Press 2016
பகுதிகள்:
நிகழ்நிலை அணுகல்:http://eprints.utm.my/73784/
http://eprints.utm.my/73784/
குறியீடுகள்: குறிச்சொல் இணை
குறியீடுகள் இல்லை, இந்த குறிச்சொல்லை முதலில் பதிவு செய்யுங்கள்!