ZrO2 thin films on Si substrate

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2010

Band alignment and enhanced breakdown field of simultaneously oxidized and nitrided Zr film on Si

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2011

Electrical Characteristics of Oxidized/Nitrided Zr Thin Film on Si

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2011

Thermal oxidation and nitridation of sputtered Zr thin film on Si via N2O gas

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2011

Metal-Oxide-Semiconductor Characteristics of Zr-Oxynitride Thin Film on 4H-SiC Substrate

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2012

Formation of Zr- oxynitride thin films on 4H-SiC substrate

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2012

Properties of thermally oxidized and nitrided Zr-oxynitride thin film on 4H–SiC in diluted N2O ambient

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2012

Effects of oxidation and nitridation temperatures on electrical properties of sputtered Zr thin film based on Si in N2O ambient

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2012

Electrical study of ZrO2/Si system formed at different oxidation/nitridation temperatures for extended duration in N2O ambient

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2013

Comparison of oxidized/nitrided Zr thin films on Si and SiC substrates

மூலம் Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2013

Thermal characteristic of sintered Ag-Cu nanopaste for high-temperature die-attach application

மூலம் Tan, K.S., Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2015

Microstructural and optical properties of ZrON/Si thin films

மூலம் Atuchin, V.V., Kruchinin, V.N., Wong, Y.H., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2013

Physical and dispersive optical characteristics of ZrON/Si thin-film system

மூலம் Wong, Y.H., Atuchin, V.V., Kruchinin, V.N., Cheong, K.Y.
வெளியீடப்பட்டது 2014

The effect of Al(NO3)3 concentration on the formation of AuNPs using low temperature hydrothermal reaction for memory application

மூலம் Ng, S.A., K.A. Razak,, Cheong, K.Y., Aw, K.C.
வெளியீடப்பட்டது 2016

Effects of post- oxidation annealing temperature on ZrO2 thin film deposited on 4H-SiC substrate

மூலம் Kurniawan, T., Wong, Y.H., Cheong, K.Y., Moon, J.H., Bahng, W., Razak, K.A., Lockman, Z., Kim, H.J., Kim, N.K.
வெளியீடப்பட்டது 2011