உருவ மூடி

Highly reflective nc-Si:H/a-CNx:H multilayer films prepared by r.f. PECVD technique

Multilayer thin films consisting of a-CNx:H/nc-Si:H layers prepared by radio-frequency plasma enhanced chemical vapour (r.f, PECVD) deposition technique were studied. High optical reflectivity at a specific wavelength is one of major concern for its application. By using this technique, a-CNx:H/nc-S...

முழு விளக்கம்

Saved in:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
தலைமை எழுத்தாளர்கள்: Ritikos, R., Goh, B.T., Sharif, K.A.M., Muhamad, M.R., Rahman, S.A.
வடிவம்: கட்டுரை
வெளியீடப்பட்டது: 2009
பகுதிகள்:
QC Physics
நிகழ்நிலை அணுகல்:http://eprints.um.edu.my/7359/
குறியீடுகள்: குறிச்சொல் இணை
குறியீடுகள் இல்லை, இந்த குறிச்சொல்லை முதலில் பதிவு செய்யுங்கள்!

இணையம்

http://eprints.um.edu.my/7359/

இதே போன்ற பொருட்கள்