Optical properties and crystallinity of hydrogenated nanocrystalline silicon (nc-Si:H) thin films deposited by rf-PECVD

Hydrogenated nanocrystalline silicon (nc-Si:H) thin films prepared in a home-built radio-frequency (rf) plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) system have been studied. The rf powers were fixed in the range of 5 W-80 W. The optical properties and crystallinity of the films were studied b...

முழு விளக்கம்

Saved in:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
தலைமை எழுத்தாளர்கள்: Tong, G.B., Aspanut, Z., Muhamad, M.R., Rahman, S.A.
வடிவம்: கட்டுரை
வெளியீடப்பட்டது: 2012
பகுதிகள்:
நிகழ்நிலை அணுகல்:http://eprints.um.edu.my/7368/
குறியீடுகள்: குறிச்சொல் இணை
குறியீடுகள் இல்லை, இந்த குறிச்சொல்லை முதலில் பதிவு செய்யுங்கள்!