உருவ மூடி

Influence of TiO2 thin film annealing temperature on electrical properties synthesized by CVD technique

Titanium dioxide (TiO2) thin film deposited onto a glass substrate by varying the parameter of annealing temperature using chemical vapor deposition (CVD) technique to investigate the electrical properties. TiO2 thin film annealed at the temperature of 300°C, 800°C and 1000°C before characterization...

முழு விளக்கம்

Saved in:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
தலைமை எழுத்தாளர்கள்: Mohamed, F.N., A. Rahim, M.S., Nayan, Nafarizal, Ahmad, M.K., Sahdan, Mohd Zainizan, Lias, Jais
வடிவம்: Conference or Workshop Item
வெளியீடப்பட்டது: 2015
பகுதிகள்:
TK2896-2986 Production of electricity by direct energy conversion
நிகழ்நிலை அணுகல்:http://eprints.uthm.edu.my/7222/
http://eprints.uthm.edu.my/7222/1/IC3E_2015_submission_181.pdf
குறியீடுகள்: குறிச்சொல் இணை
குறியீடுகள் இல்லை, இந்த குறிச்சொல்லை முதலில் பதிவு செய்யுங்கள்!
இந்த கருத்தை முதலில் விட்டுச்செல்லுங்கள்!
நீங்கள் முதலில் உள்நுழைந்திருக்க வேண்டும்

இதே போன்ற பொருட்கள்